– Shanghai accueille ce week-end la troisième étape du Championnat du Monde d’Endurance FIA WEC 2019-2020.
– Après avoir manqué le podium lors de la dernière course à Fuji pour la première fois depuis 2017, l’équipe Signatech Alpine Elf veut retrouver le trio de tête au plus vite.
– Quatrièmes du classement général en LMP2, Thomas Laurent, André Negrão et Pierre Ragues chercheront à réduire l’écart sur les leaders.
Après s’être ouverte à Fuji, la tournée asiatique du calendrier 2019-2020 se poursuit de l’autre côté de la mer de Chine puisque tout le paddock se réunit à Shanghai cette semaine.
D’une longueur de 5,451 km, le circuit international de Shanghai s’est rapidement imposé comme un véritable défi avec ses enchaînements rapides, une ligne droite de 1300 mètres débouchant sur une épingle serrée, mais surtout son interminable premier virage se refermant sur lui-même.
Sixièmes au Japon tout en limitant les dégâts après un accrochage dans la première heure, les troupes de Philippe Sinault possèdent déjà une occasion de rebondir sur un tracé occupant une grande place dans l’histoire contemporaine d’Alpine en sport automobile.
En 2015, Signatech Alpine y avait ainsi obtenu sa toute première victoire en Championnat du Monde d’Endurance FIA WEC. Confiée à Nelson Panciatici, Paul-Loup Chatin et Tom Dillmann, l’Alpine A450b avait alors relégué sa plus proche rivale à un tour.
Un an plus tard, l’Alpine A460 franchissait le drapeau à damier au quatrième rang, un résultat suffisant pour remporter la première couronne mondiale de la marque dans la catégorie LMP2 avant même le dernier rendez-vous de la saison.
Depuis, l’Alpine A470 s’est classée deuxième en 2017, puis troisième en 2018 pour inscrire des points précieux dans la course au titre en dépit de conditions parfois dantesques. Le contexte est toutefois un peu différent cette année puisque Shanghai figure pour la première fois dans la première moitié du calendrier.
Contrairement aux éditions précédentes où la course se déroulait sur six heures, l’édition 2019 sera sur un format de quatre heures, comme à Silverstone en début de saison, ce qui impacte profondément les stratégies de course.
Les Bleus tenteront d’en tirer pleinement profit pour surprendre leurs adversaires comme ils avaient pu le faire en terres britanniques en allant chercher la deuxième place acquise à quelques kilomètres seulement de l’arrivée !
Actuellement quatrièmes du classement général à quinze points seulement de la tête du championnat, Thomas Laurent, André Negrão et Pierre Ragues ont donc un objectif simple : obtenir le meilleur résultat possible en alliant concentration, humilité et sérénité pour mettre leurs rivaux sous pression avant le cap de la mi-saison.
Après les trois séances d’essais libres, les qualifications se dérouleront samedi pour les concurrents engagés dans les catégories LMP1 et LMP2. Le départ des 4 Heures de Shanghai sera donné dimanche à 12h00 heure locale, soit 5h00 en France.
Philippe Sinault, Team principal Signatech Alpine Elf : « Cela faisait bien longtemps que nous n’avions plus connu un résultat tel qu’à Fuji, mais nous avons su prendre huit points malgré les circonstances et l’adversité. Notre objectif est désormais clair : nous devons renouer au plus vite avec le podium afin de rester dans le groupe de tête au championnat. Le circuit de Shanghai possède deux principales caractéristiques qui sont sa très longue ligne droite et son premier virage en escargot qui torture les pneumatiques, notamment à l’avant gauche. Comme nous allons y découvrir les pneumatiques Michelin, les séances d’essais libres seront d’autant plus importantes pour déterminer un bon équilibre en vue de la course, mais nous pourrons aussi nous appuyer sur nos expériences précédentes sur ce tracé. Le format de quatre heures de course mettra également plus d’emphase sur la stratégie et l’une des clés du succès sera assurément la gestion des pilotes et de leurs relais. L’équipe s’est toutefois bien préparée à ce rendez-vous en tirant tous les enseignements de Fuji et nous arrivons confiants en Chine. »
Christophe Deville,